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中国科学院大学硕士研究生导师信息：邓文渊
邓文渊 男 硕导 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件： dengwy@ciomp.ac.cn
通信地址： 长春市东南湖大路3888号
邮政编码：
招生信息
招生专业
080300-光学工程
招生方向
光学薄膜及器件
教育背景
2004-09--2008-02 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 博士
2000-09--2003-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 硕士
1992-09--1995-07 南昌大学 大学
工作经历
工作简历
2009-10~2021-07,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 副研究员
2004-09~2008-02,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 博士
2003-04~2009-09,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 助理研究员
2000-09~2003-04,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 硕士
1995-07~2000-09,江西省赣州监狱, 副中队长
1992-09~1995-07,南昌大学, 大学
专利与奖励
专利成果
( 1 ) 一种EUV多层膜光学元件的综合测试装置与及其测试方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726504.1
( 2 ) 一种EUV掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726501.8
( 3 ) 一种深紫外波段宽带分束膜制备方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 108169827
( 4 ) 一种CaF2光学基底清洗方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 201910935258.3
( 5 ) 一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106772710
( 6 ) 一种CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404746
( 7 ) 一种CaF2光学基底深紫外激光辐射诱导表面变化检测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404745
( 8 ) 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置, 2018, 第 4 作者, 专利号: 106756864
( 9 ) CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件, 2018, 第 1 作者, 专利号: 106405688
( 10 ) UV光的应用方法及UV光薄膜处理应用装置, 2018, 第 1 作者, 专利号: 105855243
( 11 ) 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 105021627
( 12 ) 一种极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法及装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510962345.x
( 13 ) 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510963031.1
出版信息
发表论文
(1) Plasma-ion-assited deposition of HfO2 films with low UV absorption, Surface & Coating Technolo gy, 2020, 第 1 作者
(2) Laser induced damage threshold testing of DUV optical materials, CHINESE OPTICS LETTERS, 2013, 第 1 作者
(3) Characterization of Interfacial Layer of DUV coatings by Sepctroscopic Elliptrometry, Advanced Material Research, 2013, 第 1 作者
(4) Optimal design and fabrication method for antireflection coatings for P-polarized 193 nm laser beam at large angles of incidence (68°–74°), J. Opt. Soc. Am. A, 2013, 第 4 作者
(5) Analysis of spectral components in the 1.5 lm emission band of Er3+ doped borosilicate glass, Journal of Non-Crystalline Solids, 2004, 第 1 作者
科研活动
科研项目
( 1 ) ArF光源光学薄膜元件研制, 参与, 国家任务, 2013-01--2021-06
( 2 ) 极紫外光刻机核心子系统攻关与验证, 参与, 国家任务, 2019-01--2021-06
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